In diesem Spezialkurs begeben wir uns auf Entdeckungsreise, wobei der Kontrast zwischen technoiden und gewachsenen Strukturen, wie beispielsweise sperrig und rund oder kalt und warm, im Mittelpunkt steht. Unter Anwendung der Tief- und Siebdrucktechnik sowie der Fotografie vereint dieser Kurs drei verschiedene Methoden der Vervielfältigung, die in unseren professionell ausgestatteten Werkstätten für Fotografie, Druck- und Siebdruck unterrichtet werden.

Dabei folgen wir keiner festen inhaltlichen Vorgabe. Vielmehr geht es um das Ausprobieren und Experimentieren. Es ist die Suche nach gegensätzlichen Strukturen und Formen, die auf einer oder mehreren Radierplatten gegeneinander und miteinander gedruckt werden. In diesem Kurs setzen wir uns praktisch mit den Möglichkeiten einer experimentellen Erweiterung der Radierung durch die Techniken der Fotoradierung über die Siebdrucktechnik und die Fotografie auseinander, so dass individuelle Originale entstehen.

Kontrastreich: Diese Techniken ermöglichen allein durch ihre technoide Anmutung, die ähnlich präzise wie eine Fotografie auf der Druckplatte wirken, eine Erweiterung des sonst nur durch den individuell zu erzeugenden Strich in der Radierung.

Der Spezialkurs richtet sich an Teilnehmer, mit Lust am Experimentieren und ersten Vorkenntnissen in der Radierung, Fotografie oder im Siebdruck. Wir unterrichten diesen Kurs in einer Kleinstgruppe von maximal fünf Teilnehmern, um jedem Einzelnen beim Erlernen und Anwenden dieser Techniken gerecht werden zu können.

Termine: 23.10.2019, 06.11.2019, 20.11.2019, 04.12.2019, 18.12.2019, 15.01.2020, 29.01.2020, 26.02.2020, 11.03.2020, 25.03.2020

Der Kurs findet abwechselnd in der Druckwerkstatt (Raum 1.02), der Bildhauerwerkstatt (Raum 1.06.) und im Fotolabor (Raum 1.01) der Kunst.Schule.Rostock, Friedrichstraße 23 statt.

Die unterschiedlichen Module werden von den Dozenten Alexandra Lotz, Thomas Häntzschel und Felix Fugenzahn im Wechsel geleitet.